Wzór na objętość strefy najbardziej aktywnej w procesie ma postać:
\(V_{int}=\cfrac{\pi}{4}d_1^2h_{dyn}\)
gdzie:
\(V_{int}\) - objętość strefy najbardziej aktywnej w procesie \([m^3]\),
\(V_{int}=\cfrac{\pi}{4}d_1^2h_{dyn}\)
gdzie:
\(V_{int}\) - objętość strefy najbardziej aktywnej w procesie \([m^3]\),
\(d_1\) - średnica wlotu do aparatu \([m]\),
\(h_{dyn}\) - wysokość dynamiczna \([m]\).
\(h_{dyn}\) - wysokość dynamiczna \([m]\).
Wzór na objętość strefy najbardziej aktywnej w procesie - jak stosować w praktyce?